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什么是真空镀膜?

2022-01-07

 真空镀膜

    氩(氩)离子主要通过辉光放电撞击在靶表面,贵州钛金厂,靶的原子被喷射并沉积在衬底表面形成薄膜。溅射薄膜的性能和均匀性优于蒸发薄膜,但镀膜速度比蒸发薄膜慢得多。几乎所有的新型溅射设备都是利用强大的磁体螺旋电子加速靶材周围氩的电离,增加了靶材与氩离子的碰撞几率,提高了溅射速率。一般金属镀膜多采用DC溅射,贵州镀钛加工 ,非导电陶瓷材料采用射频交流溅射。其基本原理是氩(Ar)离子在真空中通过glowdischarge撞击在靶材表面,等离子体中的阳离子会作为溅射材料加速到负极表面,使靶材飞出沉积在衬底上形成薄膜。一般来说,溅射镀膜有几个特点:

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    (1)金属、合金或缘体可制成薄膜材料。

    (2)在适当的设置条件下,可以将多个复杂的靶制成相同成分的薄膜。

    (3)通过向放电气氛中加入氧气或其他活性气体,可以制成目标材料和气体分子的混合物或化合物。

    (4)可以控制靶输入电流和溅射时间,容易获得高精度的膜厚。

    (5)与其他工艺相比,有利于生产大面积均匀薄膜。

    (6)溅射粒子几乎不受重力影响,PVD真空镀膜,靶和衬底的位置可以自由排列。

    (7)基材与薄膜的粘合强度是普通蒸镀薄膜的10倍以上,由于溅射粒子具有较高的能量,会继续在成膜表面扩散,获得坚硬致密的薄膜,同时,高能量使基材在较低的温度下获得结晶薄膜。

    (8)成膜初期,成核密度高,可制得10纳米以下的极薄连续膜。

    (9)靶材使用寿命长,可长期自动连续生产。

    (10)目标材料可以制成各种形状,通过机器的特殊设计,可以更好地控制和有效地生产。



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